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微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測試系統(tǒng)
產(chǎn)品概述
磁光克爾測量技術(shù)主要通過探測光和磁性樣品相互作用后反射光的偏振態(tài)變化來研究材料的磁性，在超快磁光存儲領(lǐng)域有重要應(yīng)用，磁光克爾測量技術(shù)是一種無接觸光學測量技術(shù)， 在單原子層微小樣品測量方面*具優(yōu)勢，實現(xiàn)PPMS和SQUID無法完成的測量。微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)是基于磁光克爾效應(yīng)的非接觸、非破壞可直接觀測磁性材料和器件中的磁化狀態(tài)的光學顯微成像設(shè)備，用于清晰直觀了解樣品內(nèi)的磁化狀態(tài)空間分布和時間演化。
北京卓立漢光儀器有限公司全新推出微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測試系統(tǒng)，可根據(jù)用戶需求提供定制化解決方案，產(chǎn)品范圍涵蓋微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)和磁圓二色測試系統(tǒng)，并可根據(jù)用戶需求升級拓展拉曼，熒光，熒光壽命及二次諧波（可選配電控偏振）等模塊，可用于檢測樣品表面磁性和磁疇結(jié)構(gòu)，適用于磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等應(yīng)用領(lǐng)域。
非接觸，非破壞
波長，偏振態(tài)，角度分辨
微區(qū)測量
磁疇成像
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
磁光克爾顯微成像測試系統(tǒng)使用多路鎖相，同步采集，大幅抑制激光功率波動噪聲。配置無磁反射式物鏡或單個非球面鏡成像，極低的法拉第效應(yīng)。使用光彈調(diào)制器，同步獲得MOKE與RMCD數(shù)據(jù)。產(chǎn)品從空間配置與鍍膜參數(shù)嚴格設(shè)計及檢測的光學元件組，保偏性能*佳。
主要配置清單
模塊 | 參數(shù) |
主體架構(gòu) | 主體尺寸：長 × 寬 × 高，約 600 mm × 600 mm × 550 mm; |
顯微成像模塊 | 尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
MOKE&RMCD模塊 | 外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
Raman532&PL&SHG模塊 | 外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
532nm窄線寬激光器 | 中心波長：532nm+/-0.1 |
軟件 | MOKE，RMCD，Raman，PL 掃描成像； |
典型光路原理：
模塊化軟件界面：
可編程自動化運行界面：
典型數(shù)據(jù)和論文：
面掃描，磁疇成像，器件成像
本系統(tǒng)已發(fā)表論文：
[1] Huang X, et al. Nature Communications, 14(1): 2190.( 2023)
[2] Chen X, et al. Adv. Sci. 10, 2207617.( 2023)
[3] Dai H, et al. [J]. ACS nano, 16(8): 12437-12444.( 2022)
[4] Dai H, et al. [J]. ACS Appl. Mater. Interfaces 2021, 13, 24314?24320
[5] Zhang L, et al. Adv. Mater. 2020, 32, 2002032
[6] Wang M, et al. Nanoscale, 2020, 12, 16427.
可擴展功能：
拉曼，熒光，熒光壽命及二次諧波
典型實測數(shù)據(jù)：
偏振二次諧波：紅*納米帶
熒光壽命掃描（FLIM）：Cs/FA/MA三陽離子鈣鈦礦
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登陸 網(wǎng)站地圖
